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佳能公布新专利图改善高密度传感器
来源: CBSi中国·PChome      作者:李玮琦     发布时间:2012年08月18日 13:51:26     
 

        

佳能在近日公开的一份专利中,提出了一种在传感器内层镜片和光电二极管之间嵌入高折射层的新技术。新技术利用高折射层自身特性,提高传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。

佳能公布新专利图改善高密度传感器

ML:微透镜层,ML2:内层镜片,LL:低折射层,HL:高折射层,PD:光电二极管,SL:遮光层,P:像素尺寸,D:层间膜厚度,W:透光间隙宽度

佳能此项专利于2011年1月20日注册,2012年8月9日公开,特许公开号:No. 2012-151367。

佳能公布新专利图改善高密度传感器

现有传感器内的光电二极管无法收集透光间隙外的光线

二极管无法收集遮光层间隙以外的光线,而且随着像素密度的增加,遮光层的透光间隙宽度也会随之减小,严重影响传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。

一般微透镜折射率为1.6,低折射层的折射率为1.45,佳能此项新技术使用的高折射层的折射率达到了2.3。新技术通过在内层镜片和光电二极管之间嵌入高折射层,将所有入射光线都聚焦在透光间隙内,从而达到提高光线收集能力和相位差检测对焦速度的目的。

看起来,佳能的这项专利与月初尼康公布的改善传感器光线收集能力专利似乎是异曲同工。

编辑点评:佳能的此项专利不知道是不是放在自己的微单产品中,但是佳能能在技术方面开诚布公,还是非常少见的,相比之前看到的索尼还有奥林巴斯来说,佳能在微单产品中的技术还等待考验。


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